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您的位置：網(wǎng)站首頁 > 技術(shù)文章 冷濺射小型磁控濺射儀是一種利用電子束轟擊靶材，將靶材濺射到基底表面形成薄膜的儀器。它的主要部分包括真空室、電子槍、靶材、磁控系統(tǒng)、基底臺(tái)和控制系統(tǒng)等。磁控濺射儀具有高沉積速率、高成膜質(zhì)量和較大的靶材利用率等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)、磁性...
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的物理性能測(cè)試儀器，用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。薄膜制備小型磁控濺射儀設(shè)備由磁控濺射...
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